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產品名稱: Themis透射電鏡
產品型號: TFE000054
產品時間: 2025-09-18

客服熱線:4008005586

Thermo Scientific™ Themis™ 基于FEI的Titan/TEM平臺——2005年推出——Themis TEM家族形成了下一代的世界上大的,商業上可用的材料科學解決方案,與Themis Z和Themis ETEM。這是開始與我們革命性的寬高張力范圍和校正準備平臺,加上寬極片間隙提供空間做更多。基于穩定性和靈活性的發展,Themis是高性能的,能夠不斷地發現和探索原子尺度。

產品介紹

這些經過驗證的光學與新的突破性掃描透射電子顯微鏡(STEM)成像能力和增強的自動化軟件相結合,使所有材料科學家都能獲得終的成像和分析性能。FEI的像差校正Themis Z掃描透射電子顯微鏡(STEM)結合了經過驗證的光學和新的突破性的STEM成像能力和增強的自動化軟件,使終的成像性能掌握在所有材料科學家的手中。與我們*的EDX投資組合的西米斯Z提供了所有全面的原子表征數據在一個單一的工具,單一的物鏡配置。ETEM是我們專門為觀察功能納米材料及其對氣體和溫度刺激的時間分辨響應而設計的環境瞬變電磁平臺。通過*的差分泵浦物鏡,樣品區成為研究催化劑顆粒、納米器件和其他材料的實驗室,使原子尺度能夠觀察表面和界面的形貌和相互作用。當需要時,泰坦ETEM可以作為原子尺度成像的標S/TEM。

 

產品特點

• 專為觀察功能納米材料及其對氣體和溫度刺激的及時響應而設計。

• 試樣區域具有*的微分泵目標透鏡,成為研究催化劑顆粒、納米器件和其他材料的實驗室,使原子尺度能夠洞察表面和界面的形態和相互作用。

• 化學成分和粘合狀態研究。

• 3d 化學映射。

• s/tem斷層掃描。

• 磁場和電場測量。

• 動態研究。

• 原位氣體-固體相互作用實驗。

 

參數 

型號: Themis 200

 

 

 

 

 

能量分散

點分辨率

 信息限制

 STEM分辨率

圖像校正器

0.8 eV

90pm

90pm

160pm

探針校正器

0.8 eV

240pm

110pm

80pm

無校正

0.8 eV

240pm

110pm

160pm

 

 X-FEG

 

注 :所有規格都是 200 kV 電壓下的數據

如需其他加速電壓下的規格列表,請聯系銷售代表

 

 

 

 

 

型號:Themis 300

 

 

 

 

 

能量分散

點分辨率

 信息限制

 STEM分辨率

圖像校正器

0.7 至 0.8 eV

80pm

80pm

136pm

探針校正器

0.7 至 0.8 eV

200pm

100pm

80pm

單色儀 + X-FEG

0.2 至 0.3 eV

200pm

80pm

136pm

 

 

 

 

 

型號:Themis ³ 300

 

 

 

 

 

能量分散

點分辨率

 信息限制

 STEM分辨率

圖像校正器

0.7 至 0.8 eV

80pm

80pm

136pm

探針校正器

0.7 至 0.8 eV

200pm

100pm

70pm

單色儀/X-FEG
圖像 + 探針校正器

0.2 至 0.3 eV

80pm

70pm

70pm

圖像 + 探針校正器

0.7 至 0.8 eV

80pm

80pm

70pm

* 取決于能量過濾器選件

 S-FEG 0.7 eV、
 X-FEG 0.8 eV

 

注 :所有規格都是 300 kV電壓下的數據
如需其他加速電壓下的規格列表,請聯系銷售代表

 

• 可選超穩定、高亮度肖特基場發射電子槍(X-FEG,更多詳情請參見單獨的產品數據表)。 

• 全新三透鏡聚光器系統可量化指示照明區域會聚角和大小,從而量化衡量電子劑量和照明條件。

• 靈活的高電壓范圍,Titan Themis 300和Titan Themis³300 :60至300kV(60、80、120、200、300kV), Titan Themis 200 :80至200kV(80、120、200kV)。

• 電子槍單色儀可實現高能量分辨率EELS以及更高的空間分辨率,尤其在低 kV HR-S/TEM下。 

• STEM和TEM :Titan Themis 300和Titan3 Themis 300 :在 STEM和TEM中可達70pm 性能 ;Titan Themis 200 :在 TEM 中具有90pm 性能,在 STEM中具有80pm性能。

• 使用環境罩時,Titan3 Themis的室內聲音和溫度變化要求可以放寬。

• 擁有模塊化鏡筒設計可以為鏡筒中的低勵磁偏轉器打造精確的機械疊層系統,大限度降低由電子 噪聲帶來的不穩定性。

• 在模式切換過程中ConstantPower™透鏡設計具有熱穩定性。 

• 低磁滯設計可大限度減小光學組件間的串音,實現可再現性。 

• Ruska-Rieke S-Twin 對稱物鏡,5.4 mm寬極片間距設計以及可以使用加熱、冷卻和STM/AFM 支架等特殊支 架的“多用途空間”。 

• 物鏡背部焦平面中的物鏡孔隙非常適合開展TEM 暗場應用工作,現場可升級,加裝探針Cs校正器。

• 自動孔隙支持遠程控制操作,而且改變孔隙期間可調用孔隙位置,具有可再現性。

• 無旋轉成像,讓操作更輕松,并能清晰呈現圖像與衍射平面之間的方位關系。 

• 用計算機控制的全新5軸樣品壓電載物臺,支持精確調用存儲位置,在搜索目標區域時跟蹤訪問過的區域,并具有超穩定、深亞埃分辨率以及低樣品漂移。

• 全新壓電載物臺可實現精確到20pm的移動,以便將目標觀測特征置于視場中央。

• 壓電載物臺提供的線性漂移補償功能可用于減輕熱漂移造成的限制,因為在原位加熱或冷卻實驗中熱漂移不可避免。 

• 分析用雙傾斜樣品架具有±40度的傾斜范圍,支持觀測多晶材料中某個晶體的多個晶帶軸。傾斜范圍高達±75度的立體成像樣品架,可大限度減少三維重構中的圖塊缺失。

• 全新冷阱設計,多可使用一周,從而大限度提高正常運行時間。

產品料號產品貨號*產品名稱*產品規格
TFE000054TFE000054Themis透射電鏡Themis 200
TFE000055TFE000055Themis透射電鏡Themis 300
TFE000056TFE000056Themis透射電鏡Themis ³ 300

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